荷蘭半導體設備巨擘艾司摩爾（ASML）上週五對媒體展示新一代極紫外光微影設備（High NA EUV），大小約一輛雙層巴士、重量約兩架空巴A320客機，價值高達3.5億歐元，約台幣118億元。
綜合路透及彭博報導，艾司摩爾上週正式對外展示High NA EUV，艾司摩爾發言人莫爾斯（Monique Mols）在媒體參觀公司總部時說，安裝這套重達150公噸的系統，需要用到250個貨箱、250名工程師，耗時6個月才能完成。
這台價值高昂的High NA EUV，由英特爾搶得頭香，並於去年12月底將首台機器運送到俄勒岡州的一家工廠，計畫2025 年底開始用它生產晶片。
至於台積電與和三星也表示打算使用此設備，但沒有說明時間表。艾司摩爾表示，迄今已收到 10 至 20 台訂單，其中包括為SK海力士提供的試點設備，預計到 2028 年每年可交付 20 台。
報導指出，這款新一代EUV可在8奈米厚半導體上列印電路，比前一代小1.7倍。電路越細，晶片上可安裝的電晶體就越多，處理速度和記憶體的表現越佳。艾司摩爾高管稱，此設備對AI發展相當重要。
艾司摩爾CEO溫彼得（Peter Wennink）上個月接受彭博訪問時強調，AI需要大量運算能力和數據儲存，若沒有艾司摩爾的技術，這一切都將無法實現，這會是該公司業務一大驅動力。自由時報0211
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