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三星3奈米良率僅20% 看不到台積電車尾燈

韓媒披露,三星電子二代3奈米製程(SF3-3GAP)目前良率只有20%左右,未能達到輝達及高通等主要潛在客戶提出良率70%的要求,使得三星無法在最先進製程與台積電競爭。

《Sisa Journal e》報導,三星算是IDM(整合元件)廠商,三星DS(半導體事業暨裝置解決方案事業部 )的三大業務記憶體、系統 LSI邏輯晶片設計、Foundry晶圓代工環環相扣,三星原本以為可以吸引外部客戶選擇三星邏輯代工、HBM(高頻寬記憶體)及先進封裝的一站式解決方案,並帶動自家儲存業務部的先進HBM記憶體,可惜三星並未實現良性循環,以至於半導體業務陷入危機。

報導指出,三星電子第一、二代3奈米製程目前良率分別為60%、20%,無法達到高通、輝達等主要潛在客戶提出良率70%要求,造成三星無法在最先進製程與台積電競爭,晶圓代工業務與台積電的差距進一步拉大,最終選擇推遲新廠投資。

即使三星第一代3奈米製程技術表現稍微好一點,也沒有引起市場潛在客戶的興趣,其唯一的客戶是加密貨幣 ASIC 製造商。

為了挽救危機,三星電子今年5月就無預警在年中更換DS部門負責人,由全永賢接替慶桂顯。韓媒預期,三星DS部門將在集團年度管理階層調整中,將會再迎來高階主管大洗牌,三大業務的負責人恐全數更換。自由時報1108

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